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在半導體制造過程中，光刻膠的去除是關鍵步驟之一。等離子去膠技術因其高效、環保和精確性被廣泛應用于這一過程。然而為了進一步提升生產效率和產品質量，優化半導體等離子去膠機的去膠效率顯得尤為重要。1、優化工藝參數等離子去膠的效率與多種工藝參數密切相關，包括射頻功率、反應室壓力、氣體流量和類型、處理時間等。通過實驗優化這些參數，可以找到適合特定光刻膠材料的去膠條件。例如：（1）射頻功率：適當增加射頻功率可以提高等離子體密度，從而增強去膠效果。但過高的功率可能導致材料損傷或過度刻蝕。（...
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隨著工業生產的不斷發展和人們對產品品質的要求越來越高，表面處理技術逐漸成為各行業的重要環節。而寬幅等離子清洗機作為表面處理中的一種高效、環保的設備，得到了廣泛的應用。一、原理及特點寬幅等離子清洗機是利用等離子體在高頻電場作用下產生活性氧、氮等化學物質，從而實現表面去污、除膜、改善附著力等效果的設備。其主要特點如下：1、高效：采用高頻電場產生的等離子體，能夠快速去除表面的油污、氧化層、膠粘物等雜質，提高表面質量。2、環保：采用等離子體清洗技術，無需使用有機溶劑、酸堿等化學藥劑，...
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廣泛應用于電子、平板電腦、手機、家電、汽車、鋼等行業的寬幅等離子清洗機是一種新興技術，它能夠更好地消除物料表面上的灰塵、污漬、油脂和污物，保持物料表面平整、光滑、干凈。結合了高壓等離子技術和傳統的蒸汽除銹技術，在實現高效地清潔表面的同時，能夠很好地保護物料表面，從而提高物料表面的加工質量和維護壽命。寬幅等離子清洗機具有清潔效果好、操作安全、成本低、占地面積小等優點，可以有效消除到表面銹垢、油脂、污物等，保持產品表面光滑，避免表面結節、氧化和炬腐等現象的發生，從而改善產品的外觀...
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